Ultra-low-k thin films of polyhedral oligomeric silsesquioxane/epoxy nanocomposites via covalent layer-by-layer assembly

Y. L. Liu, C. S. Liu, W. H. Chen, S. Y. Chen, K. S. Wang (K. H. Wang), and M. J. Hwu

J. Nanosci. Nanotechnol.

2009/03

レフェリー付学術論文（外国語）