スルホン酸基を導入したナフタルイミド誘導体修飾シリカゲルの CEC における分離挙動

大山 要，和田光弘，岸川直哉，大庭義史，中島憲一郎，黒田直敬：薬学雑誌，123，Suppl.1，188-189，（2003）．